Vai ai contenuti. | Spostati sulla navigazione | Spostati sulla ricerca | Vai al menu | Contatti | Accessibilità

logo del sistema bibliotecario dell'ateneo di padova

Pinato, Diego (2011) Caratterizzazione di film sottili di rame su vetro e kapton. [Magistrali biennali]

Full text disponibile come:

[img]
Anteprima
Documento PDF
3990Kb

Abstract

Questo lavoro di tesi ha avuto come oggetto la caratterizzazione di film sottili di rame depositati con la tecnica del magnetron sputtering su substrati in kapton e vetro. Questa caratterizzazione è consistita prima in una misura del loro spessore, anche al fine di definire il grado di uniformità del deposito ottenibile con il dispositivo magnetron sputtering utilizzato, e successivamente in un’analisi della loro struttura interna. L’attività sperimentale ha compreso anche la valutazione della resistività elettrica dei film. Nel primo capitolo, dopo aver introdotto qualche applicazione riguardante i film sottili, sono descritte le principali tecniche che si possono adottare per la loro realizzazione, partendo dai metodi da fase gassosa fino ad arrivare ai metodi da fase liquida e solida. Nel secondo capitolo descrive la tecnica dello sputtering, e in particolare quella che adotta il sistema magnetron, con i suoi vantaggi e limitazioni. In questo ambito viene analizzato anche qualche aspetto riguardante i tre elementi principali dello sputtering: il plasma, ossia il gas ionizzato necessario per questo tipo di deposizione, i target e i substrati. Il terzo capitolo riguarda le caratteristiche proprie dei film sottili, dalla loro formazione ai loro stress residui, passando per i difetti rilevabili all’interno della loro struttura cristallina. Nel quarto capitolo sono riportati alcuni metodi di caratterizzazione dei film, tra cui la misura del loro spessore attraverso l’utilizzo del profilometro e l’analisi della loro struttura interna mediante la diffrazione a raggi X. Oltre a questi metodi saranno descritte anche la tecnica di microscopia a scansione elettronica, la microscopia a forza atomica ed il metodo a quattro punti adottato per la misura della resistività elettrica di un film. Nel quinto ed ultimo capitolo si riporta l’attività pratica svolta: prima di tutto è presentato il sistema magnetron sputtering utilizzato e la procedura seguita per realizzare i film; quindi vengono descritte le misure effettuate su tali depositi con un profilometro, un diffrattometro a raggi X, ed il metodo a quattro punti, con le relative difficoltà incontrate e l’analisi dei risultati ottenuti

Tipologia del documento:Magistrali biennali
Parole chiave:film, sottili, kapton, caratterizzazione
Settori scientifico-disciplinari del MIUR:Area 09 - Ingegneria industriale e dell'informazione > ING-IND/31 Elettrotecnica
Codice ID:35089
Relatore:Desideri, Daniele
Data della tesi:14 Ottobre 2011
Biblioteca:Polo di Ingegneria > Biblioteca di Ingegneria dell'Informazione e Ingegneria Elettrica "Giovanni Someda"
Tipo di fruizione per il documento:on-line per i full-text

Solo per lo Staff dell Archivio: Modifica questo record