In questo lavoro è stata trattata la tecnica di deposizione Electron Beam Evaporation, con la quale sono stati depositati alcuni film sottili. I materiali utilizzati per le deposizioni sono stati cromo, alluminio e fluoruro di magnesio. I film di cromo sono serviti per la caratterizzazione delle dinamiche di deposizione, il fluoruro di magnesio è stato utilizzato per la realizzazione di superfici antiriflesso e per gli specchi di alluminio, caratterizzati dalla sovrapposizione di un film di alluminio e un film di fluoruro di magnesio. Di tutti i film sottili realizzati sono state eseguite misure di spessore e rugosità al profilometro, e analisi di riflettività allo spettrofotometro

Deposizione e caratterizzazione di film sottili realizzati via E-Beam evaporation

Zambolin, Mattia
2012/2013

Abstract

In questo lavoro è stata trattata la tecnica di deposizione Electron Beam Evaporation, con la quale sono stati depositati alcuni film sottili. I materiali utilizzati per le deposizioni sono stati cromo, alluminio e fluoruro di magnesio. I film di cromo sono serviti per la caratterizzazione delle dinamiche di deposizione, il fluoruro di magnesio è stato utilizzato per la realizzazione di superfici antiriflesso e per gli specchi di alluminio, caratterizzati dalla sovrapposizione di un film di alluminio e un film di fluoruro di magnesio. Di tutti i film sottili realizzati sono state eseguite misure di spessore e rugosità al profilometro, e analisi di riflettività allo spettrofotometro
2012-11-27
95
film sottile, Electron Beam Evaporation
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.12608/16429