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Zambolin , Mattia (2012) Deposizione e caratterizzazione di film sottili realizzati via E-Beam evaporation. [Laurea triennale]

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Abstract

In questo lavoro è stata trattata la tecnica di deposizione Electron Beam Evaporation, con la quale sono stati depositati alcuni film sottili. I materiali utilizzati per le deposizioni sono stati cromo, alluminio e fluoruro di magnesio. I film di cromo sono serviti per la caratterizzazione delle dinamiche di deposizione, il fluoruro di magnesio è stato utilizzato per la realizzazione di superfici antiriflesso e per gli specchi di alluminio, caratterizzati dalla sovrapposizione di un film di alluminio e un film di fluoruro di magnesio. Di tutti i film sottili realizzati sono state eseguite misure di spessore e rugosità al profilometro, e analisi di riflettività allo spettrofotometro

Item Type:Laurea triennale
Corsi di Laurea Triennale:Scuola di Ingegneria > Ingegneria elettronica
Uncontrolled Keywords:film sottile, Electron Beam Evaporation
Subjects:Area 02 - Scienze fisiche > FIS/03 Fisica della materia
Codice ID:42076
Relatore:Pelizzo, Maria Guglielmina
Data della tesi:27 November 2012
Biblioteca:Polo di Ingegneria > Biblioteca di Ingegneria dell'Informazione e Ingegneria Elettrica "Giovanni Someda"
Tipo di fruizione per il documento:on-line per i full-text

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